〇 2014년 10월 24일, 일본 특허청(JPO)은 중국 국가지식산권국(SIPO)과 특허심사하이웨이(PPH) 등 지식재산 분야에 협력하기로 합의함
 
〇 (배경) 중국에서의 특허출원 건수는 2011년 이후 세계 제1위를 차지하며 그 성장률도 현저함
  - 2013년 중국에서의 일본 특허출원 건수가 약 4.1만 건으로 외국 특허출원 건수 중 최다인 점 등 일본과 중국이 밀접한 관계임
 
〇 (주요내용) 특허 분야, 디자인 분야, 기계화 분야, 심판 분야, 법제도 운용 등에 대해 협력하기로 합의함
  - (특허 분야의 협력) 일중 PPH에 대해서 심사처리기간 등 관련 통계 데이터를 공유하는 것 등에 합의함
  - (디자인 분야의 협력)  창작비용이성에 관한 비교 연구표를 작성하고, 국제 디자인분류나 헤이그협정 가입의 경험에 대해서 정보를 교환함
  - (기계화 분야의 협력) One Portal Dossier¹⁾를 대중에 공개하는 것에 대해서 협력하기로 합의함
  - (심판 분야의 협력) 심판 분야의 전문가들이 제1회 정기회의를 개최하여 무효심판의 운용, 인재육성 등에 관한 의견교환에 합의함
  - (법제도 및 운용에 대한 협력) 일중 법제도・운용 심포지엄을 지속적으로 개최하는 것에 합의함 
 
〇 (향후과제) 일본 출원인의 지식재산권이 중국에서도 신속하고 고품질의 심사에 의해 보호・활용될 수 있도록 제도 구축에 노력할 예정임


1) One Portal Dossier란 미국, 유럽, 일본, 한국, 중국 5대 특허청에서 특허심사진행정보 등을 일괄하여 제공하는 서비스임.