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| 미국 특허상표청, 등록 후 절차에 관한 최종 개정 규칙 발표 |
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| 구분 | 미국 | 자료출처 | www.jdsupra.com | ||||||||||||||||
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| 분류 | 보호 > 보호지원제도 정비 > 관련 제도 정비/개선 | ||||||||||||||||||
| 기관구분 | 공공 | 주체기관 | 미국 특허상표청 | ||||||||||||||||
| 통권 | 2015-24 호 | 발행년도 | 2015 | ||||||||||||||||
| 발행일 | 2015-06-12 | ||||||||||||||||||
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〇 2015년 5월 19일, 미국 특허상표청(USPTO)은 등록 후 절차(post-grant proceedings)에 관한 최종 개정 규칙을 발표함
- (배경) 2012년, 미국 발명법(AIA)에 따라 관련 규칙 및 지침이 개정된 후 일정 기간이 경과하여 특허 절차 재정비의 필요성이 대두됨에 따라, USPTO는 2014년 6월, 특허심판 절차 개선을 위하여 대중에게 의견 개진을 요청하고, 규칙 개정 작업에 착수함 ⦁2015년 3월, USPTO는 대중의 의견을 반영한 특허심판위원회(Patent Trial and Appeal Board, PTAB)의 심판 절차 개선을 위한 계획을 발표하고, 그 첫 번째 조치로써 올해 2분기에 심판절차에 대한 1차 개정 규칙을 발표할 것이라고 밝힌 바 있으며, 동 개정은 그에 따른 것임 - (주요내용) 동 규칙 개정에 따라 변경되는 특허심판 절차의 주요내용은 다음과 같음 | 등록 후 절차에 관한 최종 개정 규칙 주요 내용 |
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