지식재산정책정보분석
지식재산관련 학술/인력정보에 관한 분석정보를 제공합니다.
지식재산창출
- 홈 > 학술정보데이터베이스 > IP 동향정보 > 주제별 분류 >
- 지식재산창출
| 일본 특허청, 특허 부여 후 정정요건 등에 대한 한·중·일 비교 연구 보고서 발표 |
|---|
| 구분 | 일본 | 자료출처 | www.jpo.go.jp |
|---|---|---|---|
| 분류 | 인프라 > 정책수립 및 지원 > 지식재산정책연구 | ||
| 기관구분 | 공공 | 주체기관 | 일본 특허청 |
| 통권 | 2025-4·5 호 | 발행년도 | 2025 |
| 발행일 | 2025-02-04 | ||
|
∙ 2025년 1월 15일, 일본 특허청(JPO)은 ‘특허 부여 후 정정(보정)요건 및 그 목적에 관한 비교 연구(特許付与後の訂正(補正)要件及びその目的に関する比較研究)’보고서1)를 발표함
- (배경) JPO는 중국 국가지식산권국(CNIPA), 한국 특허청(KIPO)과 심판분야의 협력 촉진, 정보 교환, 제도운영 차이점을 분석하여 상호 이해를 심화하는 것을 목적으로 2013년부터 심판 공동 전문가 그룹 회의를 개최하여 각국의 심판제도 및 운영에 대한 비교 연구를 진행함 - (주요내용) 동 보고서의 ‘특허 부여 후 정정요건’에 대한 주제는 2023년 12월 제10차 심판 공동 전문가 회의에서 제안된 것으로 주요내용은 다음과 같음 ![]() 1) 동 보고서의 원문은 다음의 링크 참조: https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/nityukan/document/nicyukan_shinpan_hikakuken/comparative-study-2025_ja.pdf 2) 여기서 말하는 전리(专利)는 중국의 특허를 뜻하는 말로 발명특허, 실용신안특허, 디자인특허를 포함하는 개념임.
|
|||
