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| 중국 광둥성 지식산권국, 특허 허위표시 등에 대한 양형기준 발표 |
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| 구분 | 중국 | 자료출처 | www.iprchn.com | ||||||||
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| 분류 | 보호 > 보호지원제도 정비 > 관련 제도 정비/개선 | ||||||||||
| 기관구분 | 공공 | 주체기관 | 중국 광둥성 지식산권국 | ||||||||
| 통권 | 2015-41 호 | 발행년도 | 2015 | ||||||||
| 발행일 | 2015-10-09 | ||||||||||
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〇 2015년 8월 27일, 중국 광둥성 지식산권국(广东省知识产权局)과 광둥성 인민검찰원(人民检察), 광둥성 공안청(公安厅)은 공동으로 「광둥성에서의 특허 범죄 행위에 관한 양형기준(广东省知识产权部门移送涉嫌犯罪案件标准)」을 발표함
- (배경) 국가지식산권국(SIPO)에 따르면 광둥성의 2015년 상반기 특허 허위표시 적발로 인한 집행처리 건수는 100건 이상으로, 전국 최고 수준임 - (주요내용) 동 양형 기준은 「허위표시의 죄」 등 특허 범죄 행위에 대한 양형기준과 그 근거1)를 명시함 ⦁특허 범죄의 종류 및 그 행위의 심각하고 엄중한 경우를 열거함 | 광둥성 특허 범죄 양형 기준의 개요 |
1) 「최고인민법원 및 최고인민검찰원의 지식재산권 침해 형사 사건 처리의 구체적 법적용에 관한 몇 가지 문제에 대한 해석(最高人民法院·最高人民检察院关于办理侵犯知识产权刑事案件具体应用法律若干问题的解释)」을 근거 규정으로 제시함. 2) 타인의 특허를 도용하는 경우, 법에 따라 민사책임을 지는 것 이외에 특허업무를 관리하는 부서가 시정을 명령하고 공고하며, 위법소득을 몰수하고 위법소득의 4배 이내의 과태료를 병과할 수 있다. 위법소득이 없는 경우 20만 위안 이하의 과태료에 처할 수 있고, 범죄를 구성하는 경우 법에 따라 형사책임을 추궁한다. 3) 특허법 제63조에서 규정한 특허 도용 행위에 대 허위표시, 허위표시된 상품의 판매행위, 특허 출원 서류와 같은 공문서의 위변조 행위 등을 규정함. |
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