〇 2015년 10월 23일, 일본 특허청(JPO)은 10월 22일 한국 서울에서 「제27회 한ㆍ일 특허청장 회의(日韓特許庁長官会合)」를 개최하였다고 발표함
  - (배경) 한ㆍ일 양국은 상호 3번째로 큰 무역 상대국이며, 2014년 일본에 대한 투자 금액은 24.9억 달러에 달하는 등 긴밀한 경제 관계를 구축하고 있음
   ⦁또한 양국의 특허출원 건수는 일본이 세계 3위(32.6만 건), 한국이 4위(21.1만 건)로, 양국은 지식재산 분야에서 중요한 위치를 차지하고 있음
  - 이러한 양국의 관계 하에 양국 특허청은 1983년부터 매년 1회씩 동 회의를 개최하고 있으며, 1년 동안의 협력 성과와 차년도의 행동 계획에 대해 논의를 심화하고 있음
 
〇 (주요내용) 양국 청장은 심사, 심판, 정보 인프라 정비 등 다방면에 걸친 협력에 대해 협의하였으며, 주요 합의 내용은 다음과 같음
  - (특허 분야 협력) 양국 특허청 심사관의 심사 실무에 관한 지식의 공유를 위한 특허심사하이웨이(PPH)에 대하여 더 많은 기관에서 통계가 제공되도록 양청이 협력하고, 양국 심사관 간의 협의를 지속적으로 실시하는 것에 합의함
  - (디자인 분야 협력) 디자인 제도의 양국 간 공통점에 대하여 협력하고, 헤이그 협정에 있어서 양국 디자인제도 이용자의 편리성 향상 및 이용 촉진을 위해 헤이그 협정의 발전을 위한 논의를 계속하기로 합의함
 
〇 (향후계획) JPO는 향후 일본 출원인의 지재권이 한국에서도 신속하고 질 높은 심사에 의해 보호ㆍ활용되도록 제도적 환경의 구축에 노력할 것이며, 제3국의 지식재산 환경 정비를 위해 양청이 협력해 나갈 것임