〇 2016년 2월 11일, 지식재산 전문 로펌 Hunton & Williams는 「2015 디자인 특허 연례 보고서(2015 Design Patent Year in Review)」를 발표함

〇 (주요내용) 이번 보고서는 2015년도부터 올해까지 이어질 주요 특허 동향 4가지를 제시하고 있으며, 그 내용은 다음과 같음
  - 미국 발명법(AIA)에 따라 2012년 당사자계 무효심판(IPR)이 도입된 이후, 디자인 특허 당사자계 무효심판 청구가 매년 증가하고 있음
  - 2014년 4월 결정된 최초의 디자인 특허 IPR과 관련하여, 2015년 4월 미국 연방대법원(CAFC)은 특허심판위원회(PTAB)의 결정을 지지하는 판결을 선고하였으며 이는 향후 디자인 특허 절차의 상당 부분에 대한 통찰을 제시함
  - 2015년, 디자인 특허 손해배상 및 디자인 특허의 장식성(ornamentality)과 기능성(functionality)의 관계와 관련하여 중대한 의의를 내포한 2건의 CAFC 판례를 제시함¹⁾
  - 2015년 5월 13일 미국 정부가 「산업디자인의 국제등록을 위한 헤이그시스템(Hague System for the International Registration of Industrial Designs)」을 공식 도입함에 따라 디자인 특허 보호가 용이해졌으며 미국 내 디자인 특허 출원이 증가함

〇 (향후 전망) 디자인 특허는 실용특허(utility patents)보다 출원 시 비용과 시간이 적게 들며 심사 중 선행기술에 의한 거절이 보편적이지 않고 관리비가 필요하지 않다는 점에서 향후 5년간 장식적 디자인에 대한 특허 보호 방법으로써 디자인 특허 출원이 선호될 것으로 전망됨


1) APPLE INC. V. SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.,786 F.3D 983 (FED. CIR. 2015); NORDOCK, INC. V. SYSTEMS INC., 2015 U.S. APP. LEXIS 17117 (FED. CIR. SEPT. 29, 2015).