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일본 특허청, 2017년도 「지식재산 공로상」 시상 계획 발표
구분  일본 자료출처   www.jpo.go.jp
분류   인프라 > 교육/인력양성 및 지원 > 지식재산 전문인력 양성
기관구분   공공 주체기관  특허청
통권  2016-40 호 발행년도  2016
발행일  2016-09-30
 • 2016년 9월 20일, 일본 특허청(JPO)는 2017년도 「지식재산 공로상(知財功労賞)」 시상 계획을 발표함
  - (배경 및 목적) 일본 경제산업성(経済産業省)과 JPO는 매년 4월 18일 ‘발명의 날’을 맞아 지식재산권 제도의 발전에 공헌한 개인 및 기업 등을 선정하여 「지식재산 공로상」을 시상하고 있음
   ∙ 「지식재산 공로상」은 「지식재산권 제도 관련 공로자 표창」 및 「지식재산권 제도 활용 우수기업 표창」으로 구분되며, 시상을 통해 지식재산권 제도 보급 및 계발에 이바지하는 동시에 산업 발전에 기여하는 것을 목적으로 함
  - (대상) 각 부문 시상과 관련하여 다음 중 하나에 해당하는 개인 또는 기업이 선정됨
  (1) 지식재산권 제도 관련 공로자 표창
   ∙ 지식재산권 관련이 있는 단체 및 산업 단체의 임직원으로서 지식재산권 제도의 발전에 현저한 공로가 있는 자
   ∙ 지난 몇 년간 공업소유권 심의회 등에 참여하였으며, 지식재산권 제도의 발전에 현저한 공로가 있는 자
   ∙ 지난 몇 년간 변리사 업무를 수행하였으며, 지식재산권 제도의 발전에 현저한 공로가 있는 자
   ∙ 교육에 종사하는 직원으로 지식재산권 제도의 보급⋅계발에 현저한 공로가 있는 자
   ∙ 기타 지식재산권 제도의 발전에 현저한 공로가 있는 자
  (2) 지식재산권 제도 활용 우수기업 표창
   ∙ 지식재산권 제도의 활용을 통해 그 발전에 기여한 기업
   ∙ 지식재산권 제도의 활용을 통해 그 발전에 기여한 중소기업⋅협동조합⋅교육기관 등
  - (일정) 세부 일정은 다음과 같음

 
| 2017년도 「지식재산 공로상」 세부 일정 |
일 자 내 용
2016. 9. 관계 단체의 추천 의뢰
2016. 10. 추천 마감
2017. 2. 선정위원회, 수상자 및 수상 기업 결정
2017. 4. 수상자 및 수상 기업 공표
2017. 4. 18. 시상식