• 2017년 2월 28일, 중국 국가지식산권국(SIPO)은 ‘특허 출원행위 규범에 관한 몇 가지 규정(关于规范专利申请行为的若干规定)’을 개정하여 공표함

- (배경) 2007년, SIPO는 특허품질을 높이기 위해 동 규정을 제정하여 비정상 특허 출원행위를 규정하고 그에 대한 제재조치를 제시함
  ∙ 최근 들어 새로운 유형의 비정상 특허 출원행위가 등장하여 이에 대한 제재가 필요해짐
  ∙ 2015년 12월, 국무원은 ‘새로운 상황 하에서 지식재산권 강국 건설을 가속화하는 몇 가지 의견'¹⁾에서 특허품질 향상 프로젝트를 실시해야 한다고 언급하였으며, 이에 2016년 SIPO는 ‘특허품질 향상 프로젝트 실시방안’을 제정하여 발표함
  ∙ SIPO는 ‘특허품질 향상 프로젝트 실시방안’에서 동 규정의 개정계획을 명시하였고, 2016년 8월부터 개정업무에 착수하여 각계의 의견수렴을 거친 뒤 동 규정을 개정함

- (주요내용) 개정된 규정에서는 비정상 특허 출원행위의 범위를 확대하고 해당 행위에 대한 제재를 강화함
  (1) 비정상 특허 출원행위의 범위 확대
    ∙ 현행 규정에서는 현존 기술 또는 디자인을 명백히 모방하여 특허 출원한 경우를 비정상 특허 출원행위로 간주함
    ∙ 개정된 규정에서는 다른 재료, 구성요소, 배합율, 부품 등을 단순 교체하거나 합쳐서 특허를 출원한 경우, 컴퓨터 기술을 통해 무작위로 생산된 제품 형상·도안·색채 등을 출원한 경우도 비정상 특허 출원행위로 규정함
    ∙ 또한 ‘중화인민공화국 권리침해책임법’에 의거하여 개인 또는 단체가 타인의 비정상 특허 출원을 도와주는 행위도 포함함
  (2) 제재조치 강화
    ∙ 비정상 특허 출원행위의 정도가 심각한 출원인에 대해 특허비용 감면 제외, 추가납부를 하도록 하였고, 해당 연도부터 5년간 특허비용 감면대상에서 제외하도록 함
    ∙ 출원과정에서 지원을 받았거나 수상경력이 있는 출원인이 비정상 특허 출원행위를 한 경우, 각급 지식산권국은 지원 또는 수상 철회 및 환수를 진행하고 해당 연도부터 5년간 지원이나 수상대상에서 제외함
    ∙ 비정상 특허 출원행위를 한 출원인, 대리기관을 전국 신용정보공유플랫폼에 공시함

- (시행일) 개정된 규정은 2017년 4월 1일부터 시행함


1)  관련 내용은 본 연구원 동향 「Issue & Focus on IP」 2016-2호 참조:
https://www.kiip.re.kr/board/trend/view.do?bd_gb=trend&bd_cd=1&bd_item=0&field=searchTitle&query=%EC%83%81%ED%99%A9&po_item_gb=&po_no=15285