• 2017년 5월 4일, 대만 지혜재산국(TIPO)은 개정 특허법(專利法)을 5월 1일부터 시행했다고 발표함

- (배경 및 목적) 이번 특허법 일부 개정은 혁신 및 기술 보급을 확대하기 위해 유예기간¹⁾을 보다 더 관대하게 적용하는 것을 목적으로 함
  ∙ 대만 행정원(行政院)령에 의해 2014년 3월부터 특허법 일부 개정이 추진되었으며, 동 개정안은 2016년 12월 30일에 입법원(立法院)의 마지막 법령심사단계인 제3독회를 통과하여 최종 확정됨

- (주요내용) 동 개정법은 2017년 1월 18일에 총통령으로 공포되었으며 주요 개정내용²⁾은 다음과 같음
  ∙ 유예기간을 기존의 6개월에서 12개월까지 확대하며, 이는 발명이 실수로 또는 출원인에 의해 의도적으로 공개되었을 때 적용함
  ∙ 특허 공보는 동일한 연구개발에서 투자 중복을 피하거나 공개된 특허의 청구범위를 대중에게 알리기 위한 것인 반면, 유예기간은 발명 이전에 예외적인 공개로 인한 신규성 상실을 방지하는 것이 목적이므로 특허 공보에 게시된 경우에는 유예기간에 관한 조항을 적용하지 않음
  ∙ 출원인이 특허 출원 시에 유예기간을 주장해야 한다는 조항을 삭제하여, 출원 시 유예를 주장하지 않아 무효가 되는 것을 방지함


1) ‘출원유예기간(Grace period)’은 우리나라 특허법상 신규성 의제에 해당하는 것으로 신규성을 상실하더라도 신규성을 상실하지 않는 것으로 간주하는 것을 의미하며, 한국, 일본, 미국, 유럽 등에서 관련 규정을 두고 있음.
2) 개정법 대조표(중문)는 다음의 웹사이트 참조: https://www.tipo.gov.tw/site/UipTipo/public/Attachment/72211472770.pdf