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싱가포르 지식재산청, 기관 최초로 ‘특허 절차 매뉴얼’ 발표
구분  기타 자료출처   www.ipos.gov.sg
분류   인프라 > 정책수립 및 지원 > 지식재산 관련 직/간접적 계획수립
기관구분   공공 주체기관  싱가포르 지식재산청
통권  2017-32 호 발행년도  2017
발행일  2017-08-10
• 2017년 8월 1일, 싱가포르 지식재산청(IPOS)은 특허 출원 촉진 장려책의 일환으로 기관 최초의 특허 절차 매뉴얼(Patents Formalities Manual)1)을 발표함

- (배경) IPOS는 발명가의 특허 출원을 촉진·지원하고 출원 절차에 소모되는 시간을 단축하며 제출된 서류 처리의 정확성을 제고하기 위하여 보다 용이하고 효과적인 특허 출원·등록 실무 정보를 제공하고자 계획을 추진하였으며, 이에 따라 동 매뉴얼을 제작함

- (주요내용) 동 매뉴얼은 출원인이 싱가포르 특허법(Singapore Patents Act) 및 규칙(Singapore Patents Rules), 특허협력조약(PCT)에 따른 국내단계진입에 관한 실무적 정보 및 요건 등을 기술하고 있으며, 매뉴얼의 각 파트별로 다음의 내용이 포함됨
  ∙ (특허 등록) 특허 출원·등록 요건, 출원서 작성, 출원번호 등 배정 규칙, 방식심사(Preliminary Examination) 등
  ∙ (PCT 국내단계진입) PCT 제도 안내, PCT 국내단계진입시 출원번호 등 배정 규칙, 출원일, 출원 변경 신고 등
  ∙ (특허공개) 특허 출원 공개, 조기공개 요청, 국제출원 번역 공개
  ∙ (조사 및 심사) 조사 및 심사 방법, 보충조사 요청, 견해서에 대한 답변, 심사검토보고서 요청
  ∙ (특허 등록 및 등록 후) 갱신료, 특허존속기간 연장, 등록 후 변경, 특허 회복, 특허 회복에 따른 갱신료 및 추가 수수료
  ∙ (기타) 등록 전 변경, 기간 연장에 따른 보상, 발명자 정보 기재, 우선권 주장, 명세서 기재, 취소 등


1) 동 매뉴얼은 다음의 웹사이트 참조: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/infopacks/patents-formalities-manual-(aug-2017).pdf?sfvrsn=0