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| 미국 Patently-O, 미국 특허 심사계류기간 추이 발표 |
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| 구분 | 미국 | 자료출처 | www.patentlyo.com | ||||
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| 분류 | 인프라 > 지식재산 시스템 구축 > 지식재산 관련 정보제공/교류 | ||||||
| 기관구분 | 민간 | 주체기관 | 미국 Patently-O | ||||
| 통권 | 2017-41 호 | 발행년도 | 2017 | ||||
| 발행일 | 2017-10-19 | ||||||
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• 2017년 10월 15일, 미국의 특허 전문 보도매체 Patently-O는 2005년부터 2017년까지 최근 13년간 미국 특허의 출원일부터 특허 등록일까지 심사계류기간을 조사한 결과를 발표함
- (개요) ‘지식재산 및 기업가정신 센터(Center for Intellectual Property and Entrepreneurship)’의 공동 책임자이자 Patently-O의 저자 중 한 명인 미주리주립대학교 로스쿨 Dennis Crouch 교수는 미국 특허 심사계류기간 추이를 조사함 - (주요내용) 미국 특허는 출원일부터 평균 4년 이상 지난 이후에 등록되며, 주요내용은 다음과 같음 ∙ 미국 특허 심사계류기간은 2005년 평균 약 4년에서 2012년 평균 약 5.3년으로 증가했으나, 2017년 평균 약 4.6년으로 감소함
∙ 아래 차트는 2017년 등록된 미국 특허 심사계류기간을 나타내며, 미국 특허 심사계류기간은 24개월 ∼ 48개월이 가장 높은 분포를 차지하는 것으로 나타남
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