• 2018년 10월 10일, 미국 국제무역위원회(International Trade Commission, ITC)는 네덜란드의 광학 리소그래피¹⁾ 전문업체인 ASML社가 일본의 Nikon社에 대하여 특허침해를 이유로 관세법 제337조에 근거하여 조사²⁾를 신청했다고 발표함

- (배경) 미국 관세법 제337조는 ITC에게 수입 시 지식재산권 침해를 비롯한 불공정행위에 대한 준사법적 조사권을 부여하고 있으며, ITC는 동 조항을 위반한 물품에 대하여 배제명령(exclusion order) 및 중지명령(cease and desist order) 등을 할 수 있다고 규정하고 있음
∙ ITC는 조사개시 후 45일 이내에 조사 종료일을 설정하며, 미국 무역대표부(USTR)가 60일 이내에 ITC 결정에 대하여 정책적 이유에 의한 거부권을 행사하지 않는 한 ITC의 결정은 효력이 발생함

- (주요내용) 2018년 9월 12일, ASML社는 Nikon社(2개의 자회사 포함)가 자사의 특허를 침해했다며 ITC에 관세법 제337조 조사를 신청함
∙ ITC는 ASML社의 관세법 제337조 조사 신청과 관련하여 리소그래피 시스템과 구성요소에 대한 조사를 실시하기로 결정함
∙ 동 조사에서 문제가 되는 ASML社의 특허는 리소그래피 장치 및 제조방법(US7295283B2), 리소그래피 투영시스템과 액체공급시스템(US9188880B2), 리소그래피 투영장치 및 제조방법(US7403264B2)임
∙ ASML社는 Nikon社가 US7295283B2 특허의 청구항 중 1~2항, 5~9항, 15~16항, 18~22항, 25항, 27항, US10044013B2 특허의 청구항 중 1~3항, 5~6항, US9188880B2 특허의 청구항 중 1항, 3~4항, 7~12항, 22~23항, 25~27항을 침해했다고 주장함


1) 리소그래피(Lithography)는 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술임.
2) 동 조사의 조사 통지서(notice of investigation)는 다음의 웹사이트 참조:
https://usitc.gov/secretary/fed_reg_notices/337/337_1137_notice_10092018sgl.pdf