• 2019년 5월 1일, 대만 지혜재산국(TIPO)은 특허심사 실무를 더욱 견고히 하기 위한 개정 특허법이 2019년 4월 16일 의회를 통과하였다고 발표함

- (배경) 대만 특허법은 1944년 5월 제정되어, 1949년 1월 1일부터 시행된 이후 총 13차례 개정됨

- (주요내용) 개정 특허법의 주요내용은 다음과 같음
∙ (분할출원 기간 연장) 특허등록출원의 결정이 있은 후 30일 내에만 분할출원이 가능하였으나, 그 기간을 3개월로 연장하고, 구법에서는 재심사 청구시에는 분할출원이 불가능하였으나 개정법에서는 재심사 청구시에도 3개월 이내에 분할출원이 가능하게 함
∙ (무효심판에서의 증거제출기간) 특허무효심판의 심결 중 새로운 이유, 증거의 제시, 등록후 정정을 위한 근거의 제출은 무효심판청구 후 3개월 이내에 제출되어야 함
∙ (실용신안특허의 실질심사) 현행 실용신안 특허의 방식심사에서 실질심사로 전환하고 즉시 시행함
∙ (디자인 보호기간 연장) 디자인특허의 보호기간은 현행 12년에서 15년으로 연장함
∙ (문서보존기간 축소) 현행 특허법상 특허문서의 보존기간은 영구적이었으나, 개정 특허법에서는 특허 문서의 보존기간을 정하여 주기적으로 문서를 파쇄하고 저장 공간을 확보할 수 있게 함