• 2019년 12월 16일, 한국 특허청(KIPO), 미국 특허상표청(USPTO), 중국 국가지식산권국(CNIPA), 일본 특허청(JPO), 유럽 지식재산청(EUIPO)으로 구성된 디자인 5청(ID5)은 지난 12월 10일 일본에서 회의를 개최하였으며 공통 디자인 실무를 마련하기 위한 공동 성명을 채택함

- (배경) ID5는 KIPO, USPTO, CNIPA, JPO, EUIPO에 의한 디자인 분야의 국제 협력을 추진하는 체계로 2015년에 설립됨
∙ 경제의 급속한 글로벌화를 배경으로 매력적인 디자인 제품의 국제 진출이 점점 활발해지는 가운데, 세계 80% 이상의 디자인 등록 출원을 취급하는 다섯 기관이 상호 이해와 국제 협력 관계를 강화해 나가는 것을 목적으로 하고 있음

- (주요내용) 이번에 개최된 제5회 ID5 회의에서는 디자인 보호에 관한 국제 협력의 강화, 법제와 실무의 국제 조화, 사용자의 편의성 향상으로 다음의 결과를 도출함
(1) 제도비교에서 공통실무연구까지
∙ 다섯 기관의 디자인 제도와 그 실무의 비교를 중심으로 협력활동을 추진하였으며 지금까지 축적된 제도 비교를 바탕으로 글로벌 디자인 보호가 지향해야할 지침이 되는 공통 디자인 실무 작성을 위해 노력하고 기관 협력의 중요한 활동 방침이 될 ‘ID5 공동 성명 2019’를 채택함
∙ 또한 디자인 실무에 관한 연구를 비롯하여 더욱 효과적이고 사용자 친화적인 디자인 보호를 주제로 다섯 기관과 사용자 사이의 활발한 의견 교환이 이루어짐
(2) 디자인 제도의 국제 협력을 위한 지속적인 노력
∙ ‘우선권 서류의 전자적 교환에 관한 연구’에서 다섯 기관 모두 2020년에 세계지식재산기구(WIPO)를 통한 우선권 서류의 전자적 교환을 개시할 예정임을 확인하였으며 이에 따른 우선권 서류의 제출에 관한 사용자의 편리성 향상이 기대됨
∙ 또한 우선권 실무에 관한 연구, 제품 표시에 관한 실무연구, 경제적 요인과 지식재산청의 시책이 글로벌 디자인 출원에 미치는 영향 분석, 3D 프린팅과 디자인 보호 등의 조사 연구 결과를 정리함