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| 특허청, 2021년 새롭게 달라지는 지식재산 제도 안내 |
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| 구분 | 한국 | 자료출처 | |
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| 분류 | 인프라 > 지식재산 시스템 구축 > 지식재산 관련 정보제공/교류 | ||
| 기관구분 | 공공 | 주체기관 | 특허청 |
| 통권 | 2021-01 호 | 발행년도 | 2021 |
| 발행일 | 2021-01-05 | ||
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● 2020년 1월 4일, 특허청(KIPO)은 2021년 새롭게 달라지는 지식재산 제도를 안내함
- (주요내용) 2021년 주요 지식재산 제도의 내용은 다음과 같음 (1) 징벌적 손해배상 실시 등 지식재산 보호 강화 ∙ 고의로 타인의 아이디어를 탈취한 자는 손해로 인정된 금액의 최대 3배까지 배상하게 함 ∙ 상표법, 디자인보호법, 부정경쟁방지법상 손해배상액의 산정방식을 개선하여 권리자의 생산 능력을 초과한 판매량에 대한 손해배상 가능 ∙ 부정경쟁행위에 대한 시정권고를 따르지 아니할 경우, 부정경쟁행위를 위반한 사실을 관보 등에 공표할 수 있으며, 또한 산업재산권분쟁조정과 부정경쟁행위에 대한 행정조사가 동시에 진행되면 행정조사를 중지하고 분쟁조정 결과에 따라 재조사 여부가 결정됨 ∙ 영업비밀 유출이 의심되는 중소기업은 민·형사소송에 필요한 초기 유출증거 확보를 위해 디지털 포렌식을 지원받을 수 있음 (2) 중소, 중견 기업 지원 ∙ 중소기업이 ‘산업재산권 진단기관’에 지출한 특허 조사·분석 비용을 R&D 세액공제 대상에 포함하며, 중소기업과 공동연구시 수수료를 감면해주는 대상을 모든 주체로 확대하고 출원료·심사청구료뿐만 아니라 설정등록료도 50% 감면함 ∙ 소재·부품·장비 분야 수출기업의 특허분쟁 대응지원을 강화하기 위해 분쟁정보 모니터링을 확대하고, 분쟁위험 사전진단 및 자문, 분쟁 대응전략 수립을 지원함 ∙ 글로벌 IP스타기업(지역의 유망 수출 중소기업)의 해외출원 심사 대응과 등록비용 지원 대상을 특허에서 상표·디자인으로까지 확대함 (3) 출원인 편의 개선 ∙ 기존에 시행하는 상표 모바일 출원에 이어, 특허·실용신안·디자인의 모바일 출원이 가능해짐 ∙ 새로운 유형의 상표와 동작ㆍ색채상표 등 기존 비전형상표의 심사 세부기준이 수립되며, 입체·위치상표의 도면 제출건수를 완화함 ∙ 일괄심사 신청대상이 확대되고 그 요건이 완화됨 ∙ 논문이나 연구노트 등을 그대로 출원할 수 있는 임시명세서 제도 활용을 장려하기 위해 출원료를 인하하며, 디자인 일부심사 제도의 대상 물품류를 식품, 잡화류, 포장용기, 보석·장신구류 등으로 확대 적용함 |
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