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미국 특허상표청, 중국에서의 상표 및 특허 보고서 발표
구분  미국 자료출처   www.uspto.gov
분류   인프라 > 정책수립 및 지원 > 지식재산정책연구
기관구분   공공 주체기관  미국 특허상표청
통권  2021-04 호 발행년도  2021
발행일  2021-01-26
 ● 2021년 1월 13일, 미국 특허상표청(USPTO)은 ‘중국에서의 상표 및 특허: 비시장적 요인이 출원 동향과 IP 시스템에 미치는 영향(Trademarks and Patents in China: The Impact of Non-Market Factors on Filing Trends and IP Systems)’ 보고서1)를 발간함

- (주요내용) 동 보고서는 높은 중국 특허 및 상표 출원률이 정부 보조금 및 기타 비시장적 요인으로 인해 어떤 영향을 받을 수 있는지 논의하고 중국 법인의 특허·상표 출원 증가가 IP 시스템에 미치는 영향을 조사함
∙ 최근 몇 년 동안 중국에서 접수된 상표 및 특허 출원 건수가 세계 경쟁업체들을 앞질렀으며, 일부 전문가들은 한 국가의 상표와 특허 출원 규모를 해당 국가의 브랜드 생성과 혁신을 측정하는 척도로 생각하는 견해가 있음
∙ 다만, 중국에서는 정부 보조금, 부정한 목적(bad-faith)의 상표 출원 허용 등 비시장적 요인이 상표 및 특허 출원 활동에 크게 기여하고 있기 때문에 단순히 상표와 특허의 출원 건수에 기초한 국가 간 비교는 중국에서의 브랜드 생성과 혁신활동을 과대평가할 위험이 있음
∙ 또한 이러한 비시장적 요인들은 국내외 등록부 훼손, 합법적 권리자에 대한 보호 적용 범위의 축소 등을 초래함
 

1) 동 보고서는 다음의 링크 참조: https://www.uspto.gov/sites/default/files/documents/USPTO-TrademarkPatentsInChina.pdf