• 2022년 4월 4일, 일본 특허청(JPO)은 ‘2021년도 일본의 지식재산 제도가 경제에 미치는 역할에 관한 조사 보고서(令和３年度 我が国の知的財産制度が経済に果たす役割に関する調査報告書)’¹⁾를 발표함

- (배경) 일본 경제의 성장력을 높이기 위해서는 혁신(innovation)이 중심적인 정책과제이며, 지식재산 제도는 그 가장 중요한 제도 인프라 중 하나임
· 특히 정책 및 경영 실시에 있어서 실증적인 경제 분석이 매우 중요하며 이에 따라 JPO는 일본의 지식재산 제도 및 정책에 관한 통계학적·계량경제학적인 실증분석을 실시하고 있음

- (주요내용) 이번 보고서의 결과 내용은 다음과 같이 정리함
(1) 특허심사에서 면접²⁾ 및 응대를 통한 효과 분석
· (주요 분석) 심사관과 출원인·대리인의 면접에 의한 커뮤니케이션에 주목하여 그것이 권리의 범위 및 안정성에 어떠한 영향을 미칠지에 대한 실증적인 분석을 실시함
· (분석 결과) 면접은 특히 권리화 의욕이 높은 발명(패밀리 규모 및 거절이유통지 횟수로 측정), 타사로부터의 주목도가 높은 발명(피인용 건수로 측정), 조기 권리화 요구가 높은 발명(조기 심사 청구 제도의 이용 상황으로 측정)에 대해서 이용되고 있음을 확인함
· (도출 결론) 따라서 특허의 질을 높이고 특허 제도의 이노베이션 촉진 기능을 강화하는 데 있어서 온라인 면접 환경의 내실화 등 면접의 이점을 살리면서 상대적인 비용(주로 비금전적인 거래 비용)을 낮추는 대응이 중요해질 것이라 생각됨

(2) 불사용 상표에 관한 분석
· (주요 분석) 불사용 상표의 실태를 파악하고 불사용취소심판의 이용 현황 및 제도 변경에 대한 영향을 분석함
· (분석 결과) 불사용취소심판의 청구 건수를 같은 해 등록 상표의 총 건수와 비교한 결과, 심판의 대상이 되는 상표의 비율은 분석 기간 중 가장 청구 건수가 많은 2007년에 약 0.1%, 2019년에는 약 0.05%이었고, 분석 기간 내 심판 성립률이 70~80% 정도로 본 제도의 실효성이 있음을 시사함

(3) 특허 수수료에 관한 분석
· (주요 분석) 과거의 수수료 개정 중 2011년 8월 1일에 개정된 심사청구료 감액 개정의 영향을 평가하였는데, 구체적으로 선행 연구를 근거로 해 특허의 질을 정량적으로 측정한 다음, 수수료 개정이 특허의 질이나 양을 어떻게 변화시켰는지를 계량경제학적으로 분석함
· (분석 결과) 심사청구료 감액 개정의 영향을 검증한 바, 양적인 측면(심사청구 건수)에서도 질적인 측면(특허결정률, 등록특허의 질, 심사청구된 특허출원의 질)에서도 악영향은 없었다고 평가할 수 있었음

(4) 특허청의 시책에 이바지하는 국내외 계량경제학적 연구의 조사
· JPO의 시책에 활용할 수 있는 일본 국내외 계량경제학적 연구를 수집하고 정리함
· 지난 2021년 9월 8일부터 10일까지 개최된 지식재산에 관한 유럽 정책(European Policy for Intellectual Property, EPIP) 컨퍼런스에서 보고된 논문을 대상으로 JPO 시책에 활용할 수 있거나 일본에서 동일한 연구를 실시할 수 있는 지를 확인함
· EPIP에 보고된 실증 연구에 있어서 ① 특허권 보호 강화와 기업의 전략적 특허활동과의 관계, ② 특허의 배타성과 후속 발명의 관계, ③ 심사 절차에 대한 커뮤니케이션 분석 등과 같은 실증 연구는 일본에서도 실시할 가치가 있다고 판단됨

(5) 지식재산 활동 조사의 전체 추계방법 개선과 실제 운용을 위한 검증
· 지식재산 활동 조사에 있어서 전체 추계방법을 검토하고자 회수 출원인 데이터에 비중을 곱하는 확대추계법과 미회수 출원인 데이터를 PMM(Predictive Mean Matching)법을 통해 보완하고 회수 출원인 데이터와 합산하여 전체를 추계하는 보완법 두 가지를 비교함
· 보완법은 PMM법에서 이용하는 회귀식에 따라서는 추계치의 오차가 크고 난수에 따라 얻을 수 있는 결과도 다르므로 확대 추계법과 비교해 특별히 뛰어나다고는 할 수 없었고, 실용상으로 확대추계법이 바람직하다고 판단됨


1) 동 보고서는 다음의 링크 참조: https://www.jpo.go.jp/resources/report/sonota/document/keizai_yakuwari/report_2021.pdf
2) ‘면접’은 심사관과 출원인(출원인 본인과 대리인)이 특허, 상표, 디자인 심사에 관한 의사소통을 위해 실시하는 면담을 의미함.