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미국 특허심사제도의 개선안에 대한 검토
구분  미국 자료출처  
분류   창출 > 창출지원제도 정비 > 관련법률/제도 개선
기관구분   공공 주체기관  미국특허상표청
통권  206 호 발행년도  2006
발행일  2006-08-18


미국특허청은 심사기간이 길어지게 됨에 따라 개혁안을 만들어서 의견을 수렴하고 있음. 이 개혁안이 채택된다면 많은 변화가 이루어질 것으로 예상됨. 최근 Finnegan사가 이개혁안을 분석한 결과는 다음과 같음.

미국특허청의 심사기간은 점점 길어지고 있는데 출원후 첫 번째 심사를 받기 위해서는 분자생물학의 경우 27.4개월, 컴퓨터 기술의 경우 41.6개월, 비디오기술의 경우 45.3개월 기다려야 함. 이는 특허권 존속기간이 출원 후 20년임에 비추어 특허권자가 누릴 수 있는 권리기간에 부정적인 영향을 준다고 할 수 있음.

미국특허청은 이러한 심사지연이 “연속출원“을 과도하게 요구하고, 각출원의 특허 청구항이 길어지고 있다는데 원인이 있다고 진단하고 있음. 이것을 개선하기 위해서 미국특허청은 두 가지 측면의 획기적인 개선책을 제안.
첫 번째, 연속출원의 횟수를 제한하는 방안. 현재는 연속출원과 분할 출원의 횟수에 제한을 두고 있지 않은데, 개선안에 따르면 연속 출원을 원칙적으로 1회만 허용하고 예외를 엄격하게 한다는 것임.

두 번째, 첫 번째 심사의 경우 특허청구항중 10개에 대해서만 심사에 집중하며, 나머지 항은 심사에 도움을 주는 문서를 제시할 경우에만 심사를 한다는 것임.

이러한 미국특허청의 개혁안이 기업이나 개인발명가에 미치는 영향이 매우 클 것으로 예상되며, 이에 대한 대응이 필요한 시점.

[ 자료원 : Mondaq.com - 8. 4. ]