□ 일본 특허청은, 미-일 특허심사 하이웨이를 내년 1월 4일부터 본격적으로 실시한다고 발표했음. 특허심사 하이웨이는 출원인이 해외로 출원하는 경우, 조기권리화를 용이하게 하면서 각국 특허청의 심사 부담을 경감시켜 질적인 향상을 도모하는 것을 목적으로 함

□ 미-일 특허심사 하이웨이는 2006년 7월부터 1년 반에 걸친 시범 시행기간을 갖고 검토를 행한 결과, 그 효과가 확인되었음. 따라서 양국 특허청은 내년 1월 4일부터는 본격적인 실시로 이행하는 것에 합의하고, 공동 문서를 발표하였음

□ 작년 7월부터 금년 12월까지의 시행 결과를 보면, 일본에서 미국으로의 출원은 227건, 미국에서 일본으로의 출원은 159건으로, 총 386건의 이용이 있었음. 하이웨이의 주이용 기업은 캐논, 마쓰시타전기산업(松下電器産業), 도시바(東芝), 세이코엡슨, 마이크로소프트, 제너럴 일렉트릭(GE), GE메디컬, ASML 등이었다고 함

□ 상대국에서의 심사 착수는 모두 특허심사 하이웨이를 신청한 날로부터 2∼3월 이내에 이루어지는데, 그 결과 일본에서는 심사대기 기간이 1년 반 이상 단축(26개월→5개월)되었음. 그리고 미국에서도 정보처리 분야 등에서는 약 1년의 심사대기 기간의 단축 효과(31개월→18개월)가 있었음이 확인되었다고 함