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지식재산창출

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논문 : 특허출원의 임시보호제도와 법률효력에 관하여
구분  중국 자료출처   http://www.iprcn.com
분류   인프라 > 정책수립 및 지원 > 지식재산정책연구
기관구분   공공 주체기관  중국
통권  0 호 발행년도  2008
발행일  2008-11-10
□ 저자 : 안쉐메이(安雪梅)
□ 원제 : 我国临时保护制度及其法律效力
□ 개요
o 발명특허 출원의 임시보호제도는 특허법에서 특허출원자와 일반대중의 이익 균형을 맞추고 과학기술 창조 촉진에 도움이 되는 중요한 제도임
o 법률적 전통의 영향을 받아, 중국의 특허법에서 규정된 임시보호제도는 몇몇 특징을 갖고 있는데, 이는 출원자가 임시보호청구권을 주장할 때 몇몇 요소의 제한을 받는 모습으로 나타남
o 특허신청자는 권익의 한계성을 충분히 인식하여 능동적으로 조치를 취하고, 특허심사 업무에 적극 협력하여 업무가 순조롭게 진행되도록 하여 조기에 안정적인 특허권을 획득하도록 해야 함