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일본특허청, 특허제도소위원회 제2회 심사기준전문위원회 개요 공표
구분  일본 자료출처   www.jpo.go.jp
분류   인프라 > 지식재산 시스템 구축 > 지식재산정보시스템 구축
기관구분   공공 주체기관  일본특허청
통권  0 호 발행년도  2009
발행일  2009-04-21

□ 지난 2009년 4월 7일, 산업구조심의회 지식재산정책부회 특허제도소위원회의 제2회 심사기준전문위원회가 개최되었음. 자료 배포 후 타케나카(竹中) 위원, 참고인 야마구치(山口)(일본지식재산협회), 코니시(小西)(일본변리사회)의 프레젠테이션이 진행되었고, 그 후 토론이 있었음. 위원 및 참고인이 제시한 의견과 요구의 개요는 다음과 같음

 o 진보성의 수준
   - 심사 기준을 변경함으로써 진보성의 레벨을 바꾼다는 발상 자체가 신중해야 함
   - 일반론으로서 현재의 심사 기준은 나름대로 잘 수립되어 있다고 생각하며, 개별적인 의견은 분분할지도 모르나 굳이 바꿔야 할 시기는 아니라고 봄
   - 오히려 확실히 해야 하는 것은 일본이 아니라 미국·유럽의 대응임
   - 일본의 경우, 다른 나라와 비교해서 특허권자가 승소하는 확률이 매우 낮으며  소송비용도 매우 적기 때문에 페이턴트 트롤 문제를 걱정할 필요는 없음
   - 현재 법원에서 특허가 무효가 되는 확률을 보면 비정상적이기는 하나, 이는 심사 기준의 문제는 아니라고 생각함. 특허청의 결과는 안정되어 있지만 법원에서 어떻게 할 것인지를 지켜보아야 함
   - 특허 품질의 조절은 이노베이션 촉진의 관점에서도 중요함
   - 간소화 작업 등은 심사 기준 외에서 실시하고, 진보성에 대한 심사 기준 자체는 기존의 것도 괜찮음

 o 사후적 고찰(후지혜, 後知恵) 방지
   - 심사 기준은 자유재량(裁量)의 여지가 많아 베테랑 심사관에게는 매우 유용하고 적용하기도 용이하지만, 베테랑 심사관의 도움 없이도 스스로 결정할 수 있는 기준이 필요함
   - 만약 일본에서도 유럽과 같은 객관적인 과제 작성에서 논리를 만들어 실시하고 있다면, 사후적 고찰(후지혜) 방지라고 하는 것을 명기할 필요가 있음
   - 심사 기준을 처음부터 재작성하는 것이면 사후적 고찰(후지혜)을 하면 안 된다는 기재를 넣어야 하겠지만, 현재로서는 진보성 수준이 좋은지 여부 자체가 명확하지 않음
   - 발명 기술의 흐름을 조사하고 그 흐름 내에서 판단함으로써, 사후적 고찰(후지혜)을 배제할 수 있다고 봄
   -  「사후적 고찰(후지혜)」이라고 하면 부정적인 인식이 크지만, 현장의 심사관들은 추후에 실질적으로 사후 분석을 할 필요가 있는 경우가 많음. 사후 분석이 모두 나쁜 것만은 아님
   -  「사후적 고찰(후지혜) 방지」는 목적이므로 이를 기재할 것이 아니라, 사후적 고찰(후지혜)이 들어가게 되는 원인을 찾아 이를 배제하는 구체적인 구조를 기준에 활용하면 좋을 것임