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지식재산창출
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| 중국, 개정 특허법에 따른 디자인 특허출원 |
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| 구분 | 중국 | 자료출처 | news.china.com.cn |
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| 분류 | 창출 > 지식재산권 창출활동 > 지식재산권출원/등록 | ||
| 기관구분 | 공공 | 주체기관 | 중국 |
| 통권 | 2010-06 호 | 발행년도 | 2010 |
| 발행일 | 2010-02-09 | ||
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□ 중국, 개정 특허법에 따른 디자인 특허출원
○ 개정 특허법 제23조에 따라 디자인 특허의 출원의 변화가 예상됨 - 특허법 제23조 제1항에 의하여 특허등록요건이 강화됨에 따라 저촉출원이 증가할 것임. 저촉출원(抵触申请)이란 출원일 이전에 이루어진 출원이나 출원인 이후 공고될 특허문건에 포함된 발명을 포함한 출원을 말함 - 특허법 제23조 제2항에 의해 디자인 특허의 특허성을 평가할 때 고려해야 할 사항이 좀 더 까다로워짐 * 동일 제품이나 유사 제품과 유사성이 있는지에 대해 철저한 비교 과정을 거침 * 관련 디자인 특허와 동일한지 상품들의 디자인들과 비교하여 디자인의 특징 및 조합의 유의성이 있는지 심사함 |
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