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중국 국가지식산권국, ‘특허심사 지침서’관련 워크샵 개최
구분  중국 자료출처   www.cnipr.com
분류   인프라 > 교육/인력양성 및 지원 > 세미나/심포지엄 개최
기관구분   공공 주체기관  중국국가지식산권국
통권  2010-18 호 발행년도  2010
발행일  2010-04-28

◯ 4월 24~25일, 지식산권출판사(知识产权出版社)는 중국 국가지식산권국(SIPO)이 작성한 ‘특허심사 지침서(2010)’와 관련하여 워크샵을 개최함
  - 특허심사 지침서의 수정 작업에 참여한 SIPO의 전문가를 초빙하여, 관련 업계인사들을 대상으로 특허 관련 규정의 파악 및 정확한 이해를 돕고자 교육을 실시함

◯ 교육의 내용은 수정된 ‘특허심사 지침서’의 주요 부분을 포함하고 있음
  - 발명특허 출원의 초보심사(初步审查), 국외출원의 비밀유지 심사신청, 특허 출원 및 사무 처리, 실용신안특허 출원의 초보심사, 발명특허 출원의 실질심사, 외관디자인(外观设计) 초보심사, 무효선고 절차 중 외관디자인의 심사, 재심과 무효 청구의 심사, 특허권 평가보고

◯ ‘특허심사 지침서(2010)’는 개정된 특허법과 그에 따른 시행규칙의 요구를 근거로, 2006년 특허심사 지침서의 내용을 수정한 것임