〇 6월 23일, 일본 도쿄(東京)지방법원은 히타치(日立)社가 직무발명의 대가로 히타치社의 前직원 오카모토 요시히코(岡本好彦)에게 약 6,300만 엔을 지불할 것을 명함
  - 이 특허는 반도체 집적회로의 제조에 관한 것으로, 히타치社의 오카모토가 히타치社에 배상금 6억 엔을 요구하면서 소송이 시작됨

〇 이번 판결에서 시미즈 미사오(清水節) 판사는 오카모토의 발명이 상업적으로는 실용화되지 않았으며, 특허로 인한 수익 창출에 히타치社의 역할이 컸다고 판단함
  - 이에 오카모토씨의 공헌 비율을 4%로 설정한 후 지불이 완료된 보장금 약 2,200만 엔을 공제하고 배상금을 산정한 것임

〇 해당 발명은 오카모토씨가 히타치社에 재직 중이던 1988년에 발명한 것으로, 반도체 집적회로의 정도(精度)를 높이는 「위상(位相) 시프트 마스크」라는 기술임
  - 히타치社는 1997년까지 일본․미국․한국 등 각국에서 이 기술에 대한 특허를 등록함

〇 판결 후 기자 회견에서 오카모토씨는 「대부분 히타치社의 주장을 받아들인 판결로 조금도 만족할 수 없다」라고 비판하고 항소한다는 의향을 밝힘