〇 9월 1일, 일본 특허청(JPO)은 2011년 지식재산 정책 예산에 관한 수정 요구안을 발표함
- 2010년 예산액은 1,191억 엔이었으며, 2011년 수정 요구액은 1,176억 엔임
〇 중점 항목 1 : 세계 최고 수준의 특허심사 실현
- 2010년 614.7억 엔 → 2011년 632.4억 엔
* 정부와 민간의 능력을 집중시켜 업무를 효율화함으로써 세계 최고 수준의 특허심사를 제공함 (2013년 심사대기 기간 목표 : 11개월)
- 주요 정책
(1) 선행기술 조사에 관한 아웃소싱(outsourcing) 확충 : 2010년 209.5억 엔 → 2011년 212.6억 엔
* 민간의 능력을 최대한 활용하기 위해 새로운 조사기관을 추가하고 특허심사에 필요한 선행기술 조사의 아웃소싱 확대 및 내용을 보강함
* 아웃소싱 건수 : 2010년 약 24.9만 건 → 2011년 약 25.2만 건(예정)
(2) 시스템의 정비․최적화 : 2010년 38.2억 엔 → 2011년 20.7억 엔
* 「특허청 업무․시스템 최적화 계획」에 근거하여 외부 이용자에 대한 정보 제공 향상, 레가시 시스템(Legacy System)에서 벗어나는 것을 목표로 「특허청 운영 기반 시스템」의 개발을 계속함
* 세계 최고 수준의 정확하고 신속한 심사를 실현하기 위한 기반 정비로서 새로운 「특허청 검색 시스템」의 개발을 준비함. 이 시스템은 대학․기업 등의 이노베이션 촉진에도 기여할 수 있도록 개방적인 형식으로 특허정보와 기술정보를 일시에 검색할 수 있도록 개발함
〇 중점 항목 2 : 지식재산권 제도의 국제적 공통화 촉진과 모방품 침해 대응
- 2010년 29.4억 엔 → 2011년 27.8억 엔
* 지식재산권 제도의 국제적 조화를 촉진하고 모방품 침해 대책을 종합적으로 추진하여, 일본 기업이 보유한 지식재산권의 국제적인 보호에 대응함
- 주요 정책
(1) 지식재산권 제도의 국제적 공통화 촉진
* 각국 정부와의 교섭, WIPO(세계지식재산권기구) 등을 통해 지식재산권 제도의 국제 공통화를 추진함
* 특허심사하이웨이를 통한 이용자의 편의를 향상시키고, 해외에서 일본기업이 신속히 권리를 취득할 수 있도록 지원함
* APEC에서 일본이 제안한 지역 내 심사 결과의 상호 이용 촉진, 인재육성 기관 간의 협력 강화 등을 구체화하여 글로벌 지식재산 기반을 구축함
(2) 모방품 침해에 대한 대응
* 아시아 지역 개발도상국의 특허청이나 단속 집행기관(세관, 경찰) 직원 등 지식재산 관계자를 대상으로 심사․단속 능력 향상을 위한 연수를 실시하고, 일본 기업 지식재산권이 적절한 보호를 받을 수 있도록 촉진함 (2010년 7.0억 엔 → 2011년 6.6억 엔)
* 일본 기업을 대상으로 해외 지식재산권 제도에 관한 상담 및 모방품 침해 대책에 관한 상담(각국의 현지 법률 사무소 활용, 해외에서 세미나․상담회 개최 등)을 실시함 (2010년 4.1억 엔 → 2011년 3.9억 엔)
* 「중-일 지식재산권 워킹그룹」이나 민관 합동방문단 등 모방품 대책에 관한 각 국가 간 업무의 효율성을 높이기 위해 여러 가지 조사 및 정보교환 등을 실시함(2010년 5.3억 엔 → 2011년 4.8억 엔)
〇 중점 항목 3 : 지역․중소기업의 지식재산권 활용에 대한 지원
- 2010년 27.3억 엔 → 2011년 30.8억 엔
* 지역․중소기업에서 지식재산권 제도를 편하게 이용하도록 각각의 요구에 대응하는 지원을 실시함
- 주요 정책
(1) 원스톱 서비스 창구의 설치 : 20.0억 엔(신규)
* 중소기업 등 지식재산 활용 지원 사업 : 중소기업을 대상으로 아이디어 단계부터 특허 취득, 사업에 이르는 각 단계에 대한 상담에 대응하는 일원적인 창구인 「중소기업 지식재산 지원센터」를 각 지역에 설치함. 여러 전문가․지원 기관 등과 공동으로 원스톱 서비스를 제공하여 지식재산 활용․신규 사업화를 지원함
(2) 출원과 관련된 부담 경감 : 0.8억 엔(유지)
* 해외 출원 지원 사업 : 국제적인 사업 진출에 대응하기 위해 중소기업이 해외 출원을 하는데 필요로 하는 비용을 지원함
