〇 9월 24일, 일본 대학기술이전협의회가 주최한 「제7회 산학협력실무자네트워킹(UNITT2010)」이 전기통신대학에서 개최됨
  - 이 회의에서 일본 특허청(JPO) 총무부 기획조사과 시마노 쿠니히코(嶋野邦彦) 과장은 지식재산 정책의 향후 방향성을 설명함
  - 또한, 시급히 특허 출원일을 확보하는 특허 출원 방법으로는 보정이나 국내 우선권 제도를 활용하는 방법이 있다고 사견을 밝힘
   * 이는 미국의 가출원 제도에 해당하는 특허 출원 방식임

〇 선출원주의 하에서는 경쟁 상대보다 특허를 먼저 출원하는 것이 중요한데, 특히 생명과학 분야는 전 세계적으로 연구개발 경쟁이 치열함 
  - 일본 기업이나 대학 등의 연구원은 출원일을 확보하려고 미국의 가출원 제도를 이용한 특허출원 전략을 이용하는 경우가 증가하고 있음
   * 이에 일본의 특허제도에 가출원 제도를 도입해야 한다는 의견도 높아지고 있음
  - 그러나 시마노 과장은 미국의 가출원 제도에 해당하는 일본의 출원 방법으로 보정과 국내 우선권 제도가 있다고 언급함. 이는 특허 출원일을 확보함으로써 사실상 선출원의 위치를 확보할 수 있게 되는 것임

〇 보정출원을 이용하는 방법이란 특허를 출원한 후에 명세서나 청구 범위, 도면에 기재한 사항을 보정할 수 있도록 하는 제도를 이용하는 것을 의미함
  - 특허 출원시의 서류는 특허법 제36조 제2항에서 정하고 있으며, 출원서는 명세서, 청구 범위, 요약서, 도면 등으로 구성되어 있음
  - 따라서 연구원이 발명 내용을 논문에서 기술하고 있는 경우에는 논문 내용을 기본으로 명세서, 청구 범위, 요약서, 도면을 작성하고, 특허 출원서를 신규 작성하여 추가하면 특허 출원 서류의 요건을 채우게 됨. 이를 출원하면 특허 출원일을 확보할 수 있음
  - 시마노 과장은 확보된 출원일을 기반으로 사후에 보정을 통해 「강한 특허」로 만들고자 하는 경우, 최초 출원하는 명세서에 발명 내용을 충분히 공개하는 것이 필요하다고 언급함
   * 명세서, 청구 범위, 도면에 기재한 사항만 범위 내에서만 보정을 할 수 있음

〇 또한 특허법 제41조에서 정하고 있는 국내 우선권 제도는 이미 출원되어 있는 특허도 대상에 포함하고 있어, 보다 포괄적인 발명으로 특허를 취득할 수 있게 하는 제도라고 강조함

〇 시마노 과장은 보정이나 국내 우선권 제도를 활용한 특허출원 방법은 선출원으로부터 1년 이내에 보다 충실하고 넓은 범위의 특허출원을 할 수는 있지만, 이를 위해서 지켜야 할 최소한의 요건이 있다고 밝힘
  - 특히 발명이 충분히 공개되어 있어야 한다는 점을 재차 강조하고, 특허출원의 원칙은 출원 내용을 충분히 검토한 후에 서류를 제출해야 한다고 언급함