〇 12월 2일, 중국 국가지식산권국(SIPO)은 Thomson Reuter社가 최근 발표한 「중국의 특허(专利在中国)」보고서 내용을 공개함
  - 보고서는 Derwent World Patents Index(R) (DWPI(SM))의 데이터를 이용하여, 2003-2009년 사이의 IP5(한국, 미국, 유럽, 일본, 중국)의 특허청 데이터를 대상으로 발명특허와 실용신안특허 출원 통계를 비교 분석하여, 특허 활동의 현황을 이해하고 중국의 특허 출원 증가 원인을 분석함
  - IP5 지역의 기본 특허, 특허, 기본 특허와 특허 간 비율 등 총 3개의 자료를 횡적으로 비교함
   * 기본 특허와 특허 간 비율은 특정 지역의 혁신능력과 이 지역이 현지 기업과 해외 기업에 대해 가지고 있는 시장성을 종합적으로 비교하는데 사용됨
   * Thomson Reuter社는 기업 및 전문가들에게 정보를 제공하는 세계 선두 업체로서, 업계 전문지식과 혁신적인 기술을 접목하여 금융, 법, 세금과 회계, 건강관리 및 과학과 미디어 업계에서 활약하는 최고의 의사결정자들에게 중요한 정보를 제공함

1. IP5 지역의 특허 증가세
〇 2003-2009년 사이의 특허 출원과 기본 특허는 일본이 1위를 차지하고 있으나 성장 속도가 둔화되고 있음
  - 미국이 증가 하여 양국의 격차가 줄어듬
  - 특허 출원의 경우 중국은 최근 몇 년간 가장 빠른 속도로 성장하여 2005년부터 한국과 유럽을 앞지르고 있으며, 2007년에 기본 특허 역시 한국과 유럽을 넘어섬
  - 한국과 유럽의 특허 증가세는 비슷한 상황이나 기본 특허는 한국이 더 많음

〇 보고서는 중국 국가지식산권국(SIPO)의 통계 데이터를 이용, 1997-2009년 중국내에서 중국인 특허 출원과 해외 출원인의 특허 출원 건수를 비교함
  - 1997-1999년, 해외 출원인의 특허 출원이 더 많음
  - 2000-2002년, 해외 출원인과 중국인 출원이 비슷해 짐
  - 2003년 이후, 중국인 특허 출원이 많아 졌으며 2008년과 2009년에는 해외 출원인의 특허 출원 건수의 2배를 넘어섬

〇 중국 발명특허의 해외 출원이 대폭 증가함
  - 2007-2008년, 중국의 미국, 유럽, 일본 특허 출원이 각각 14.1%, 33.5%, 15.9%씩 증가하여, 미국, 유럽, 일본의 평균 증가속도를 넘어섬

〇 2001년 이후의 중국 실용신안 특허 출원의 연 평균 증가율은 18% 이상을 유지하고 있으며, 특히 2009년은 대폭 증가하여 37% 이상이었음

2. 중국, 최대 출원국으로의 발전(하이테크 분야로 확대)
〇 Thomson Reuter社는 2003-2009년 연 평균 특허 증가율을 근거로 2008년에 예상했던 것보다 1년 빠른 2011년 중국이 일본과 미국을 앞질러 최대 특허 출원국이 될 것이라고 예측함

〇 중국의 경제성장 중심축이 농업, 공업에서 점차 혁신형 업종으로 이동하면서 중국의 특허 포트폴리오는 기술면에서 기타 주요 특허 강국과 필적할 수준에 다다름
  - 화학공업 분야의 발명 특허 출원이 미국에 이어 2위를 차지함
  - 다른 대부분의 특허 출원에서 4-5위를 차지하며 한국, 유럽과의 격차가 줄어듦

〇 구체적으로 살펴보면, 1998~2008년 사이 중국의 발명특허 출원이 가장 많았던 5가지 기술 분야에서 큰 변화가 나타남
  - 천연 제품과 집합체 분야의 특허 출원이 1위에서 4위로 하락하였으나, 디지털 컴퓨터, 전화, 디지털 전송 시스템, 무선 라디오, 회로 전송시스템 등은 2008년 상위 3위권에 진입함
  - 디지털 컴퓨터의 1998년 특허 출원은 2,000여 건에 불과했으나 2008년에는 약 20배 증가하여 4만 여 건에 달함

3. 혁신활동에 있어 중국 정부는 중요한 역할을 수행함
〇 특허 건수의 빠른 증가는 정부의 강력한 지원이 있었음
  - 2006년 혁신형 국가 건설이라는 목표를 제시한 후, 2008년 「국가 지식재산권 전략 강요(国家知识产权战略纲要)」를 발표하였고, 중국 정부는 여러 조치를 통하여 자체 지식재산권 소유를 독려하고 안정적으로 발전할 수 있도록 지원함

〇 중국 정부는 일련의 재정 정책을 통하여 기업이 연구개발 예산을 확대하고 자체 혁신능력을 강화할 수 있도록 유도함
  - SIPO는 2006년 「특허 비용 감면 방법(专利费用减缓办法)」을 발표하여 특허 출원자 혹은 권리자가 관련 특허 비용을 납부할 때 문제가 발생할 경우 SIPO에 납부 감면을 요청할 수 있도록 규정함
  - 2008년, 중국 국가과학기술부, 재정부, 세무총국은 공동으로 「하이테크 기업 인정 관리 방법(高新技术企业认定管理办法)」을 발표하여, 기준에 부합하는 하이테크 기업에 대하여 세수 우대 혜택을 신청할 수 있도록 하는 정책을 마련함

  - 2009년, 중국 국가 재정부는 「해외 특허 출원 자금지원 - 특별 자금관리 임시 방법(资助向国外申请专利专项资金管理暂行办法)」을 발표하여, 1억 위안 규모의 중앙 정부 특별 기금을 조성하여 출원인이 해외 특허를 출원할 경우 비용 지출에 대한 자금 지원을 제공하도록 함

〇 물질적 보상 분야에서는 중국 각 성급 및 시급 정부가 출원인에게 자금 지원의 방법을 통해 특허 출원을 독려함
  - 일례로, 2003년 한 시급 지식재산권 관리부처는 해외에서 발명 특허 등록에 성공한 권리자에게 매 건당 1만 위안의 자금 지원을, 국내에서 특허를 획득한 권리자에게 매 건당 5천 위안의 자금 지원을 제공함

〇 중국 정부는 지식재산권법과 관련하여 1985년 저작권법을 시작한 후 지금까지 25년이라는 짧은 시간동안 연구 개발에 대한 투자 확대와 세금 감면, 출원자에 대한 물질적 보상 등을 통해서 자체 혁신활동을 지원함
  - 2003~2007년 사이 중국의 GDP 중 연구 개발에 대한 투자가 차지하는 비중은 연 평균 9.8% 속도로 증가하였으며, 같은 기간 발명특허 출원의 연 평균 증가율이 28.4%로 세계 1위를 차지함

〇 중국 정부는 연구 개발에 관한 투자를 대폭 확대하여, 2020년까지 GDP의 2.5%까지 높일 계획임
  - 중국 정부의 경제성장 계획에서는 GDP의 성장률을 2010년 이전까지 7.5% 이상, 2020년 이전까지 7% 이상으로 유지하는 것을 목표로 하고 있기 때문에, 앞으로 수년간 정부의 연구개발 투자 역시 대폭 증가할 것으로 예상됨