지식재산정책정보분석

지식재산관련 학술/인력정보에 관한 분석정보를 제공합니다.

지식재산창출

  • 홈 > 학술정보데이터베이스 > IP 동향정보 > 주제별 분류 >
  • 지식재산창출
특허청, 중국과 특허심사하이웨이 및 국제특허심사하이웨이 MOU체결
구분  한국 자료출처  
분류   인프라 > 지식재산 시스템 구축 > 지식재산 관련 정보제공/교류
기관구분   공공 주체기관  한국특허청
통권  2011-44 호 발행년도  2011
발행일  2011-11-02

〇 11월 2일, 특허청은 중국 국가지식산권국(SIPO)과 중국 베이징(北京)에서 개최된 제17차 한·중 특허청장회담에서 특허심사하이웨이(PPH) 및 국제특허심사하이웨이(PCT-PPH)를 내년 3월 1일부터 실시하기로 합의하는 MOU를 체결함
  - 1992년 11월 한국과 중국이 최초로 제1차 한·중 특허청장회담을 개최한 이후 20년을 맞아 지재권분야 교류 협력이 전면적으로 확대됨

〇 이번 청장회담에서 양국 특허청은 특허심사, 정보화, 교육, 디자인 등에서 분야별 전문가 협의체를 지속적으로 운영하여 양국 지식재산권제도의 조화를 계속 모색해 나가기로 하고, 지재권 전문가 상호파견 등을 통해 양국간 교류, 협력을 확대·강화하기로 합의함

〇 특히, 양청은 국가지식재산전략이 효율적으로 수립 시행될 수 있도록, 작년 5월 한·중 정상회담시 합의된 「국가지식재산전략 민간협력」추진을 위해 양국 민간 연구기관 간 공동연구를 추진키로 합의함
  - 이 합의를 토대로 11월 3일, 특허청은 중국의 지재권 관련 법제 개정 등을 주도적으로 이끄는 중국 인민대학교와 지식재산권 분야 공동연구 및 교육훈련 분야의 협력을 위한 MOU를 체결함

〇 이와 별도로 특허청은 중국 최고인민법원의 지재권 총괄 부원장과 면담을 갖는 등 중국 사법부와도 교류 협력을 확대하기 위해 노력함