〇 2013년 4월 25일, 일본 대법원은 일본 히타치(日立)社의 前職 사원 오카모토 요시히코(岡本好彦)가 히타치社를 상대로 재직 당시의 직무발명에 대한 보상을 추가로 지급해 줄 것을 요구한 소송에서 원고인 요시히코의 상고를 기각하는 판결을 내림

〇 (사건경위) 동 사건에서 원고인 요시히코는 히타치社에 재직할 당시 반도체 기판에 미세한 집적회로 패턴을 새길 수 있는 위상 전환 마스크(位相シフトマスク) 기술을 개발하였고, 이러한 요시히코의 기술 개발에 대하여 피고인 히타치社는 약 2,200만 엔의 발명 대가를 지급함

  - 그러나 요시히코는 히타치社가 동 기술을 통해 약 80억 엔의 기술료 수입을 얻었으며 이런 기술료 수입 중 3억 5천만 엔을 발명 대가로 지급해야 한다고 주장함

  - 이에 대해 히타치社는 요시히코가 발명한 기술이 실제 실용화된 기술과 동일하지 않고 그 자체로는 상업적 가치가 낮다고 주장하며 해당 기술을 발명한 대가로 요시히코에게 약 2,200만 엔의 포상금을 지급함

〇 (판결요지) 동 사건에 대하여 일본 도쿄 지방법원은 2010년 6월, 요시히코의 발명이 그대로 실용화되지는 않았으며 라이선스 계약을 통해 기술료 수입을 얻은 것은 오히려 히타치社의 역할이 컸기 때문이라고 판단하고, 발명에 대한 기여도 및 라이선스 계약 협상에 대한 기여도를 평가해 히타치社가 요시히코에게 발명의 대가로서 추가로 약 6,300만 엔을 지급해야 한다고 판결함

  - 한편 동 사건의 2심을 맡은 일본 지적재산고등법원은 2012년 3월, 요시히코의 발명이 그대로 실용화된 것은 아니라는 1심의 판단을 동일하게 유지하였으나, 라이선스 계약 협상에 대한 요시히코의 기여도를 1심과 다르게 평가해 히타치社가 요시히코에게 발명의 대가로서 약 290만 엔을 추가 지급해야 한다고 판결함

  - 이에 따라 요시히코는 동 사건을 일본 대법원에 상고했으며, 이에 대하여 일본 대법원은 3억 5천만 엔의 발명 대가 지급을 주장한 요시히코의 상고를 기각하고 히타치社로 하여금 요시히코에게 추가로 약 290만 엔을 지급하라고 결정한 지적재산고등법원의 판결을 확정함