〇 2013년 11월 14일, 일본 특허청(JPO)은 지난 11월 13일에 중국 국가지식산권국(SIPO)과「제20회 특허청장 회의」를 개최하여 회의 내용을 발표함
  - JPO는 중국에서 일본 기업의 지식재산 보호 강화와 지식재산을 둘러싼 양국의 제도 환경 정비를 위해 지난 1994년부터 SIPO와 정기적으로 특허청장 회의를 개최하여 특허 및 디자인 분야의 협력을 강화하고 있음
 
〇 동 회의의 주요 내용은 다음과 같음
  - (심사관 협의 추진) 특허 출원 건수가 증가함에 따라 이용자들은 신속한 특허 심사를 요구하고 있음. 이에 양국은 심사관들의 상호 협력 강화를 위한 인프라 환경을 조성하는 데에 합의함
  - (특허심사하이웨이(PPH) 운용 체제 검토) 일본 기업들은 2011년부터 시행하고 있는「일본-중국 PPH」를 많이 이용했지만, 중국에서의 출원 서류 정정 기간 제한이 PPH 이용에 어려움이 된다고 지적함. 이에 양국은「일본-중국 PPH」의  문제점을 공동으로 분석하여 해결을 위해 노력하기로 합의함
  - (실용신안 분야 협력) 양국은 실용신안의 권리 남용에 대한 우려를 표명하고 권리 남용 방지 필요성에 공감함. 한․중․일 실용신안제도 비교표에 근거하여 양국 간 제도의 차이점에 대해 논의하기로 합의함
  - (디자인 분야 협력) JPO는 부분디자인제도¹⁾, 비밀디자인제도²⁾및 권리 남용 방지 규정의 필요성을 주장하였고, 디자인의 모방을 방지하기 위해 양국이 국제 협력 체제를 구축해 나가기로 합의함
  - (심판) 향후 심판관 상호 파견을 추진하기 위해 실무자 간 조정을 실시하기로 합의함
 
〇 이와 관련하여 JPO는 양국의 시스템을 활용하여 중국에서 일본의 지식재산권이 고품질 심사로  신속하게 보호되고 활용될 수 있는 환경을 구축하겠다고 밝힘


1) 부분디자인제도란 물품의 전체형상이 아닌 독창적인 어느 한 부분을 보호받고 싶을 때 사용하는 제도임.

2) 비밀디자인제도란 출원인이 디자인권의 설정 등록일로부터 3년 이내의 기간을 정하여 그 디자인을 비밀로 할 것을 청구할 수 있는 제도이며, 이는 출원인이 일정기간 동안 출원 디자인을 비밀로 함으로써 타인의 침해를 방지하고 제품 사업화에 대한 준비기간을 선택하도록 하기 위함임.