〇 2013년 11월 14일, 일본 특허청(JPO)은 삿포로에서「제13회 한ㆍ중ㆍ일 특허청장 회의」를 개최하여 특허 심사의 판단 차이를 최소화하기 위한 대응 등에 대한 의견을 교환함
  - 이와 관련하여 JPO는 매년 증가하는 특허 출원 건수와 이로 인한 업무의 증가에 대응하기 위해 3국은 지난 2001년부터 특허 및 디자인 분야, 지식재산 인재 육성 분야 등 다방면에 걸쳐 협력을 진행해왔다고 부연함
 
〇 동 회의의 주요 내용은 다음과 같음
  - (특허 분야 협력) 실무상 중요한 출원 서류인「명세서 기재 요건」에 관한 법령 및 심사기준을 연구하여 정리한 보고서를 3국 특허청장이 승낙하였고, 이를 공표함. 또한 특허 심사의 질적 향상을 위해 각 국 특허청 전문가가 대응 정보를 교환하는 등의 협력을 추진하기로 합의함
  - (디자인 분야 협력) 지난 2012년에 도쿄에서 개최된 「한ㆍ중ㆍ일 디자인 포럼」이 디자인 제도의 상호 이해 및 각 국의 디자인 제도에 관한 의견을 교환하는 중요한 기회가 되었다는 인식을 공유하였으며, 앞으로도 계속적인 협력을 강화해 나가기로 합의함
  - (심판 분야 협력) 「심판 전문가 회의」를 향후 정기적으로 개최하여 각 국의 심판 제도나 통계 데이터 정보 교환을 추진하고 심판 절차의 차이점에 대한 연구를 실시하기로 합의함
  - (영업비밀 보호 분야 협력) 영업비밀 보호에 관한 각국의 대응에 대한 의견을 교환하고, 전문가 연구에 착수하여 효과적인 영업비밀 보호 방향을 마련하기 위해 협력하기로 합의함
  - (기타) 3국은 향후 한국에서 개최할 예정인 제2회 특허청장 회의에서도 계속해서 지식재산권 분야의 협력을 강화해 나가기로 합의함